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OLYMPUSX射線衍射儀BTX Profiler

發(fā)布日期：2022-04-28 點擊率：40

產(chǎn)品介紹

用XRD和XRF組合技術(shù)對材料進行全面分析

利用2維傳輸XRD技術(shù)進行礦物學-結(jié)晶相分析
使用能量色散XRF技術(shù)進行元素分析
數(shù)據(jù)與結(jié)果的整合天衣無縫
節(jié)省了操作成本、空間和時間

BTX Profiler所使用的創(chuàng)新型XRD技術(shù)是美國國家航空航天局成功的火星科學實驗室項目中的“好奇”號漫游者曾經(jīng)使用過的技術(shù)。它所采用的另一種技術(shù)是Olympus的X射線分析儀所使用的廣受贊譽、優(yōu)質(zhì)實用的XRF技術(shù)。

詳細參數(shù)

BTX Profiler的技術(shù)規(guī)格

	用于單個樣品分析的BTX Profiler	用于多個樣品分析的BTX Profiler
XRD的技術(shù)規(guī)格
XRD范圍	5-55度 2θ	5-55度 2θ
XRD分辨率	0.25度 2θ	0.25度 2θ
XRD探測器類型	1024 × 256像素2維Peltier致冷CCD	1024 × 256像素2維Peltier致冷CCD
樣件顆粒大小	<150 μm碾壓粉末（100目篩）	<150 μm碾壓粉末（100目篩）
其它樣品類型	凝膠、潤滑脂	凝膠、潤滑脂
樣品量	~ 0.5 g	~ 0.5 g
X射線目標材料	銅（鈷為可選項）	銅（鈷為可選項）
X射線管電壓	30 kV	30 kV
X射線管最大電流	330 μA	330 μA
XRF的技術(shù)規(guī)格
XRF探測器	大區(qū)域硅漂移探測器	大區(qū)域硅漂移探測器
X射線目標材料	銠	銠
X射線管幾何形狀	發(fā)射目標端窗口	發(fā)射目標端窗口
X射線管電壓	40 kV	40 kV
X射線管最大電流	200 μA	200 μA
輕元素分析	氦沖，大約0.25 l/min	氦沖，大約0.25 l/min
主要過濾器	可配置7個位置	可配置7個位置
樣品量	~2 g	~2 g

工作溫度	-10 °C～35°C	-10 °C～35°C
重量	23.13 kg / 單樣品儀器	32.66 kg / 帶20個位置自動進樣機的儀器
外型尺寸	49.3 cm × 39.7 cm × 34.4 cm / 單樣品儀器	67.4 cm × 39.7 cm × 34.4 cm / 帶20個位置自動進樣機的儀器

BTX Profiler的技術(shù)規(guī)格

XRD分辨率	0.25^o 2? FWHM
XRD范圍	5 - 55^o 2?
探測器類型	1024 x 256像素；2維Peltier致冷CCD
XRF能量分辨率	200eV，5.9 keV
XRF能量范圍	3到25 keV
樣件顆粒大小	<150 μm 碾壓礦物質(zhì)（100目篩，150 μm）
樣品量	~ 15 mg
X射線目標材料	鈷或銅（鈷為可選項）
X射線管電壓	30 kV
X射線管功率	10 W
數(shù)據(jù)存儲	40 Gb - 堅固耐用的內(nèi)部硬盤驅(qū)動器
無線連接	802.11 b/g，從網(wǎng)絡(luò)瀏覽器進行遙控
工作溫度	-10^oC到35^oC
重量	12.5 kg

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OLYMPUSX射線衍射儀BTX Profiler

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用XRD和XRF組合技術(shù)對材料進行全面分析

詳細參數(shù)

BTX Profiler的技術(shù)規(guī)格

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